溅射

磁控溅射是一种高效的 PVD 镀膜技术。凯珀纳米配备多靶位磁控溅射设备，可溅射 Al、Cu、Ti、Cr、Au、Pt 等多种金属靶材，薄膜厚度均匀性±3%，附着力强，适用于欧姆接触、互连布线等应用。