PVD/CVD 镀膜设备
PVD/CVD 镀膜设备
薄膜沉积腔体
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镀膜

PVD、CVD、ALD 等多种镀膜工艺,金属/介质薄膜沉积

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工艺详情

镀膜工艺是在基底表面沉积薄膜的关键技术。凯珀纳米提供 PVD(物理气相沉积)、CVD(化学气相沉积)、ALD(原子层沉积)等多种镀膜服务,可沉积金属(Al、Cu、Au、Ti 等)、介质(SiO2、Si3N4 等)薄膜,厚度范围 10nm-10μm。
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