光刻

光刻是半导体制造中最关键的图形化工艺。凯珀纳米提供 UV 光刻（线宽≥2μm）、DUV 光刻（线宽≥0.5μm）、电子束光刻（线宽≥100nm）服务，支持正/负性光刻胶，lift-off 工艺，多层光刻对准（对准精度±0.5μm）。